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熱處理對鋅-鎳-磷-納米二氧化硅復(fù)合電鍍層性能的影響

蘇琪; 劉軍松; 劉定富; 呂小虎 貴州大學(xué)化學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院; 貴州貴陽550025
  • 納米二氧化硅
  • 復(fù)合電鍍
  • 熱處理
  • 顯微結(jié)構(gòu)
  • 耐蝕性

摘要:先采用由110 g/L ZnCl2、100 g/L NiCl2·6H2O、80 g/L CH3COONH4、40 g/L CH3COONa、5~10g/L NaH2PO2·H2O、180 g/L KCl、0.04~0.08 g/L十二烷基硫酸鈉和4~6 g/L納米SiO2(平均粒徑7~40 nm)組成的鍍液,在pH為4~5、溫度為45℃和電流密度為1.5 A/dm2的條件下電鍍20 min得到厚度為30~40μm的Zn-Ni-P-納米SiO2復(fù)合鍍層。然后在氮氣保護和不同溫度(200、300、400和500℃)下熱處理2 h。研究了熱處理溫度對復(fù)合鍍層微觀結(jié)構(gòu)、顯微硬度和耐蝕性的影響。結(jié)果表明,經(jīng)300℃熱處理的Zn-Ni-納米SiO2復(fù)合鍍層的綜合性能較好,顯微硬度為198 HV,耐蝕性最好。

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電鍍與涂飾

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  • 電力 快捷分類
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