首頁 > 期刊 > 自然科學(xué)與工程技術(shù) > 工程科技I > 材料科學(xué) > 功能材料信息 > 氬氣壓對磁控濺射制備CdZnTe薄膜形貌、結(jié)構(gòu)和電學(xué)特性的影響 【正文】
摘要:引言碲鋅鎘(CdZnTe,CZT)是一種性能優(yōu)異的Ⅱ-Ⅵ族化合物半導(dǎo)體材料,具有高原子序數(shù)、高電阻率、優(yōu)良的載流子輸運(yùn)特性等優(yōu)點(diǎn)[1-3]。相對于體晶體,CZT薄膜可進(jìn)行大面積制備,在太陽能電池、工業(yè)和醫(yī)療用X射線成像等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景[4-5].真空蒸鍍、磁控濺射、近空間升華等方法均曾被應(yīng)用于CZT薄膜的制備[1,6]。其中磁控濺射法的優(yōu)點(diǎn)是薄膜均勻性好、成分可控,可低溫制備等[7-7].人們曾經(jīng)研究過濺射功率、襯底溫度.
注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社
主管單位:中國儀器儀表學(xué)會儀表材料分會;重慶儀表材料研究所;主辦單位:中國儀器儀表學(xué)會儀表材料分會;重慶儀表材料研究所