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Japanese Journal Of Applied Physics 加入收藏

日本應(yīng)用物理學(xué)雜志 SCIE

Japanese Journal Of Applied Physics

約2.0個(gè)月 審稿時(shí)間

4區(qū)中科院分區(qū)

Q3JCR分區(qū)

1.5影響因子

0021-4922

1347-4065

JPN J APPL PHYS

JAPAN

物理 - 物理:應(yīng)用

1962

116

Monthly

English

839

0.26...

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期刊簡介

日本應(yīng)用物理學(xué)雜志(Japanese Journal Of Applied Physics)是一本由Japan Society of Applied Physics出版的一本物理-物理:應(yīng)用學(xué)術(shù)刊物,主要報(bào)道物理-物理:應(yīng)用相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊,該刊創(chuàng)刊于1962年,出版周期Monthly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級:Q3,2023年發(fā)布的影響因子為1.5,CiteScore指數(shù)3,SJR指數(shù)0.307。本刊非開放獲取期刊。

《日本應(yīng)用物理學(xué)雜志》(JJAP)是一本國際期刊,旨在促進(jìn)和傳播應(yīng)用物理學(xué)各個(gè)領(lǐng)域的知識。JJAP 是《應(yīng)用物理學(xué)快報(bào)》(APEX)的姊妹期刊,由 IOP Publishing Ltd 代表日本應(yīng)用物理學(xué)會(huì)(JSAP)出版。

JJAP 發(fā)表的文章對物理原理的應(yīng)用以及從特定應(yīng)用角度理解物理學(xué)做出了重大貢獻(xiàn)。 JJAP 涵蓋的主題包括以下領(lǐng)域:

? 半導(dǎo)體、電介質(zhì)和有機(jī)材料

? 光子學(xué)、量子電子學(xué)、光學(xué)和光譜學(xué)

? 自旋電子學(xué)、超導(dǎo)性和強(qiáng)關(guān)聯(lián)材料

? 器件物理學(xué),包括量子信息處理

? 基于物理的電路和系統(tǒng)

? 納米科學(xué)和技術(shù)

? 晶體生長、表面、界面、薄膜和塊體材料

? 等離子體、應(yīng)用原子和分子物理學(xué)以及應(yīng)用核物理學(xué)

? 器件處理、制造和測量技術(shù)以及儀器

? 跨學(xué)科領(lǐng)域,如生物電子學(xué)/光子學(xué)、生物傳感、環(huán)境/能源技術(shù)和 MEMS

中科院分區(qū)信息

日本應(yīng)用物理學(xué)雜志2023年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
日本應(yīng)用物理學(xué)雜志2022年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
日本應(yīng)用物理學(xué)雜志2021年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
日本應(yīng)用物理學(xué)雜志2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
日本應(yīng)用物理學(xué)雜志2021年12月升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
日本應(yīng)用物理學(xué)雜志2020年12月舊的升級版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)
名詞解釋:

中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中,主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力,最終每個(gè)分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的,各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分區(qū)信息

Japanese Journal Of Applied Physics(2023-2024年最新版數(shù)據(jù))
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 134 / 179
25.4%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 140 / 179
22.07%
名詞解釋:

湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》(Journal Citation Reports,簡稱JCR)。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個(gè)不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當(dāng)年IF,最終每個(gè)分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。

期刊數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

1、Cite Score(2024年最新版)
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:General Engineering Q2 119 / 307
61%
大類:Engineering 小類:General Physics and Astronomy Q2 108 / 243
55%
名詞解釋:

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

2、綜合數(shù)據(jù)
3、本刊綜合數(shù)據(jù)對比及走勢

文章引用數(shù)據(jù)

文章名稱 引用次數(shù)
  • Germanium CMOS potential from material a...

    26
  • Thermal phonon engineering by tailored n...

    24
  • 5.0 kV breakdown-voltage vertical GaN p-...

    21
  • Light based underwater wireless communic...

    19
  • Wideband acoustic wave resonators compos...

    17
  • The new nitrides: layered, ferroelectric...

    16
  • Evaluation of memory capacity of spin to...

    14
  • Scintillation properties of RE2Hf2O7 (RE...

    13
  • Reservoir computing with dipole-coupled ...

    13
  • Impact of intermediate high temperature ...

    13

期刊被引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • JPN J APPL PHYS

    2672
  • J APPL PHYS

    365
  • APPL PHYS EXPRESS

    351
  • APPL PHYS LETT

    300
  • J ALLOY COMPD

    230
  • J PHYS D APPL PHYS

    204
  • AIP ADV

    199
  • SCI REP-UK

    194
  • ECS J SOLID STATE SC

    189
  • MATER RES EXPRESS

    181

期刊引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • APPL PHYS LETT

    3617
  • JPN J APPL PHYS

    2672
  • J APPL PHYS

    2018
  • PHYS REV B

    1597
  • PHYS REV LETT

    893
  • APPL PHYS EXPRESS

    837
  • J CRYST GROWTH

    812
  • IEEE ELECTR DEVICE L

    594
  • OPT EXPRESS

    576
  • IEEE T ELECTRON DEV

    565

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