首頁(yè) > 期刊 > 自然科學(xué)與工程技術(shù) > 信息科技 > 自動(dòng)化技術(shù) > 儀表技術(shù)與傳感器 > 介孔二氧化錫薄膜的制備及其氫敏性能研究 【正文】
摘要:以三嵌段共聚物F127為模板劑,加入濃鹽酸抑制水解,通過(guò)溶劑揮發(fā)誘導(dǎo)自組裝,旋涂后在高濕度下干燥制備介孔SnO 2薄膜,并通過(guò)摻Pd進(jìn)一步提高其氫敏性能。利用X射線衍射(XRD)、比表面積與孔徑分析和透射電鏡(TEM)研究材料的結(jié)構(gòu)與形貌,通過(guò)恒流配氣法,測(cè)試其氫敏性能。結(jié)果表明:介孔SnO2粒徑約為6.38 nm,比表面積為84.62 m^2/g,孔容為0.174 cm^3/g,平均孔徑為5.6 nm。在200℃,對(duì)體積分?jǐn)?shù)2×10^-3的H2靈敏度為76,摻雜Pd后提高至191.6,具有優(yōu)秀的氫敏性能。
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