首頁(yè) > 期刊 > 自然科學(xué)與工程技術(shù) > 信息科技 > 無(wú)線電電子學(xué) > 液晶與顯示 > 激光化學(xué)氣相沉積法在TFT-LCD電路缺陷維修中的應(yīng)用 【正文】
摘要:為了維修TFT-LCD電路缺陷,利用激光化學(xué)氣相沉積法(LCVD)沉積鎢薄膜,討論成膜參數(shù)對(duì)基底損傷、鎢薄膜電阻率的影響。在空氣氛圍下,波長(zhǎng)為351nm的脈沖激光誘導(dǎo)W(CO)6裂解成膜,通過聚焦離子束-掃描電子顯微鏡(FIB-SEM)觀察薄膜橫截面研究成膜參數(shù)對(duì)基底損傷的影響,再用高精度的電參數(shù)測(cè)試儀(EPM)測(cè)試不同參數(shù)下鎢薄膜電阻??刂谱兞糠ū砻?激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底損傷越大,但電阻率越小,且不沉積薄膜時(shí)高功率激光輻射也不會(huì)造成基底損傷;激光輻射速度越大,基底損傷越小,但電阻率越大。通過平衡工藝參數(shù),得到了電阻率為0.96Ω/μm、對(duì)基底無(wú)損傷的鎢薄膜,成分分析表明此時(shí)W(CO)6已經(jīng)完全裂解。
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主管單位:中國(guó)科學(xué)院;主辦單位:中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所;中國(guó)物理學(xué)會(huì)液晶分會(huì)
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