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Ieee Transactions On Nuclear Science 加入收藏

IEEE核科學(xué)匯刊 SCIE

Ieee Transactions On Nuclear Science

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3區(qū)中科院分區(qū)

Q1JCR分區(qū)

1.9影響因子

0018-9499

1558-1578

IEEE T NUCL SCI

UNITED STATES

工程技術(shù) - 工程:電子與電氣

1954

110

Bimonthly

English

330

0.27...

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期刊簡(jiǎn)介

IEEE核科學(xué)匯刊(Ieee Transactions On Nuclear Science)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本工程技術(shù)-工程:電子與電氣學(xué)術(shù)刊物,主要報(bào)道工程技術(shù)-工程:電子與電氣相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來(lái)源期刊,該刊創(chuàng)刊于1954年,出版周期Bimonthly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí):Q1,2023年發(fā)布的影響因子為1.9,CiteScore指數(shù)3.7,SJR指數(shù)0.537。本刊非開(kāi)放獲取期刊。

《IEEE 核科學(xué)匯刊》是 IEEE 核與等離子體科學(xué)學(xué)會(huì)的出版物。它被視為其所涵蓋的許多領(lǐng)域的主要技術(shù)信息來(lái)源。根據(jù) JCR 影響因子的判斷,TNS 始終位列核科學(xué)與技術(shù)類(lèi)別的前五名期刊。它的即時(shí)性指數(shù)較高,表明其發(fā)布的信息被視為及時(shí),并且引用半衰期相對(duì)較長(zhǎng),表明所發(fā)布的信息在多年內(nèi)也被視為有價(jià)值。

《IEEE 核科學(xué)匯刊》每?jī)蓚€(gè)月出版一次。其范圍包括核科學(xué)和工程理論和應(yīng)用的所有方面。它專(zhuān)注于檢測(cè)和測(cè)量電離輻射的儀器;粒子加速器及其控制;核醫(yī)學(xué)及其應(yīng)用;輻射對(duì)材料、部件和系統(tǒng)的影響;反應(yīng)堆儀器和控制;以及太空輻射測(cè)量。

中科院分區(qū)信息

IEEE核科學(xué)匯刊2023年12月升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學(xué)技術(shù) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
IEEE核科學(xué)匯刊2022年12月升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學(xué)技術(shù) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 1區(qū) 3區(qū)
IEEE核科學(xué)匯刊2021年12月舊的升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學(xué)技術(shù) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
IEEE核科學(xué)匯刊2021年12月基礎(chǔ)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學(xué)技術(shù) 4區(qū) 3區(qū)
IEEE核科學(xué)匯刊2021年12月升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學(xué)技術(shù) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū) 3區(qū)
IEEE核科學(xué)匯刊2020年12月舊的升級(jí)版
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY 核科學(xué)技術(shù) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 1區(qū) 3區(qū)
名詞解釋?zhuān)?/b>

中科院JCR期刊分區(qū)(又稱(chēng)分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中,主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力,最終每個(gè)分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的,各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分區(qū)信息

Ieee Transactions On Nuclear Science(2023-2024年最新版數(shù)據(jù))
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 211 / 352
40.2%
學(xué)科:NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY SCIE Q1 10 / 40
76.3%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 149 / 354
58.05%
學(xué)科:NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGY SCIE Q2 13 / 40
68.75%
名詞解釋?zhuān)?/b>

湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》(Journal Citation Reports,簡(jiǎn)稱(chēng)JCR)。JCR對(duì)86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個(gè)不同學(xué)科類(lèi)別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當(dāng)年IF,最終每個(gè)分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。

期刊數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

1、Cite Score(2024年最新版)
  • CiteScore:3.7
  • SJR:0.537
  • SNIP:1.339
學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
大類(lèi):Energy 小類(lèi):Nuclear Energy and Engineering Q2 23 / 77
70%
大類(lèi):Energy 小類(lèi):Nuclear and High Energy Physics Q2 31 / 87
64%
大類(lèi):Energy 小類(lèi):Electrical and Electronic Engineering Q2 361 / 797
54%
名詞解釋?zhuān)?/b>

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

2、綜合數(shù)據(jù)
  • OA是否開(kāi)放:未開(kāi)放
  • 是否預(yù)警:否
  • 影響因子:1.9
  • Gold OA文章占比:16.44%
  • 研究類(lèi)文章占比:99.70%
  • 開(kāi)源占比: 0.15...
  • 出版國(guó)人文章占比: 0.13
  • OA被引用占比: --
  • 出版撤稿文章占比: --
3、本刊綜合數(shù)據(jù)對(duì)比及走勢(shì)

文章引用數(shù)據(jù)

文章名稱(chēng) 引用次數(shù)
  • Needs, Trends, and Advances in Inorganic...

    53
  • Evolution of Total Ionizing Dose Effects...

    15
  • Contribution of Thermal Neutrons to Soft...

    12
  • Displacement Damage in Silicon Detectors...

    11
  • Improvement of the Time Resolution of Ra...

    11
  • Influence of LDD Spacers and H+ Transpor...

    9
  • LHC and HL-LHC: Present and Future Radia...

    9
  • Thin Silicon Microdosimeter Utilizing 3-...

    9
  • Luminescence and Scintillation Propertie...

    9
  • Single-Event Burnout Mechanisms in SiC P...

    8

期刊被引用數(shù)據(jù)

期刊名稱(chēng) 引用次數(shù)
  • IEEE T NUCL SCI

    1985
  • NUCL INSTRUM METH A

    1041
  • PHYS MED BIOL

    365
  • MICROELECTRON RELIAB

    360
  • J INSTRUM

    341
  • IEEE T ELECTRON DEV

    192
  • PROG NUCL ENERG

    188
  • ELECTRONICS-SWITZ

    168
  • IEEE ACCESS

    160
  • SENSORS-BASEL

    159

期刊引用數(shù)據(jù)

期刊名稱(chēng) 引用次數(shù)
  • IEEE T NUCL SCI

    1985
  • NUCL INSTRUM METH A

    350
  • J INSTRUM

    147
  • APPL PHYS LETT

    112
  • J APPL PHYS

    102
  • IEEE T ELECTRON DEV

    84
  • NUCL INSTRUM METH B

    60
  • MED PHYS

    52
  • MICROELECTRON RELIAB

    50
  • PHYS MED BIOL

    48

國(guó)家/地區(qū)發(fā)文數(shù)據(jù)

國(guó)家/地區(qū)名 數(shù)量
  • USA

    331
  • CHINA MAINLAND

    200
  • France

    185
  • Italy

    105
  • Switzerland

    95
  • Japan

    78
  • GERMANY (FED REP GER)

    53
  • South Korea

    44
  • England

    41
  • Russia

    37

機(jī)構(gòu)發(fā)文數(shù)據(jù)

機(jī)構(gòu)名 數(shù)量
  • UNITED STATES DEPARTMENT OF ENERGY (DOE)

    105
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

    100
  • VANDERBILT UNIVERSITY

    93
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF...

    80
  • EUROPEAN ORGANIZATION FOR NUCLEAR RESEAR...

    76
  • CEA

    73
  • ISTITUTO NAZIONALE DI FISICA NUCLEARE (I...

    58
  • UNIVERSITE DE TOULOUSE

    34
  • UNIVERSITE DE MONTPELLIER

    31
  • UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFENSE

    29

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。