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Ieee Transactions On Plasma Science 加入收藏

IEEE Transactions On Plasma Science SCIE

Ieee Transactions On Plasma Science

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4區(qū)中科院分區(qū)

Q3JCR分區(qū)

1.3影響因子

0093-3813

1939-9375

IEEE T PLASMA SCI

UNITED STATES

物理:流體與等離子體 - 物理

1973

98

Bimonthly

English

419

0.2

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期刊簡介

IEEE Transactions On Plasma Science(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本物理:流體與等離子體-物理學(xué)術(shù)刊物,主要報(bào)道物理:流體與等離子體-物理相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊,該刊創(chuàng)刊于1973年,出版周期Bimonthly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級(jí):Q3,2023年發(fā)布的影響因子為1.3,CiteScore指數(shù)3,SJR指數(shù)0.417。本刊非開放獲取期刊。

范圍涵蓋等離子體科學(xué)理論和應(yīng)用的各個(gè)方面。它包括以下領(lǐng)域:磁流體力學(xué);熱電子學(xué)和等離子體二極管;基本等離子體現(xiàn)象;氣態(tài)電子學(xué);微波/等離子體相互作用;電子、離子和等離子體源;空間等離子體;強(qiáng)電子和離子束;激光-等離子體相互作用;等離子體診斷;等離子體化學(xué)和加工;固態(tài)等離子體;等離子體加熱;用于受控聚變研究的等離子體;高能量密度等離子體;等離子體物理的工業(yè)/商業(yè)應(yīng)用;等離子體波和不穩(wěn)定性;以及高功率微波和亞毫米波的產(chǎn)生。

中科院分區(qū)信息

IEEE Transactions On Plasma Science2023年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
IEEE Transactions On Plasma Science2022年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
IEEE Transactions On Plasma Science2021年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
IEEE Transactions On Plasma Science2021年12月基礎(chǔ)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理 4區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
IEEE Transactions On Plasma Science2021年12月升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
IEEE Transactions On Plasma Science2020年12月舊的升級(jí)版
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū)
名詞解釋:

中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中,主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力,最終每個(gè)分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的,各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。

JCR分區(qū)信息

Ieee Transactions On Plasma Science(2023-2024年最新版數(shù)據(jù))
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40
28.7%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40
26.25%
名詞解釋:

湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》(Journal Citation Reports,簡稱JCR)。JCR對(duì)86000多種SCI期刊的影響因子(Impact Factor)等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個(gè)不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中,主要參考當(dāng)年IF,最終每個(gè)分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。

期刊數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

1、Cite Score(2024年最新版)
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87
52%
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q3 247 / 434
43%
名詞解釋:

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

2、綜合數(shù)據(jù)
3、本刊綜合數(shù)據(jù)對(duì)比及走勢

文章引用數(shù)據(jù)

文章名稱 引用次數(shù)
  • Overview of the HCPB Research Activities...

    12
  • Two-Wave Cherenkov Oscillator With Moder...

    12
  • High-Performance Filtering Antenna Using...

    11
  • Neutron Diagnostics in the Large Helical...

    10
  • Characterization of a Compact, Low-Cost ...

    10
  • A Primer on Pulsed Power and Linear Tran...

    10
  • Preparation and Commissioning for the LH...

    9
  • Recent Progress in the WCLL Breeding Bla...

    9
  • Corona Discharge-Induced Rain and Snow F...

    9
  • Bifurcation Analysis for Dust-Acoustic W...

    8

期刊被引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • IEEE T PLASMA SCI

    2237
  • PHYS PLASMAS

    585
  • J PHYS D APPL PHYS

    364
  • PLASMA SOURCES SCI T

    296
  • J APPL PHYS

    236
  • AIP ADV

    211
  • FUSION ENG DES

    209
  • IEEE ACCESS

    201
  • IEEE T ELECTRON DEV

    180
  • PLASMA SCI TECHNOL

    172

期刊引用數(shù)據(jù)

期刊名稱 引用次數(shù)
  • IEEE T PLASMA SCI

    2237
  • PHYS PLASMAS

    882
  • J PHYS D APPL PHYS

    759
  • IEEE T MAGN

    593
  • J APPL PHYS

    583
  • PLASMA SOURCES SCI T

    427
  • APPL PHYS LETT

    341
  • PHYS REV LETT

    300
  • REV SCI INSTRUM

    278
  • IEEE T DIELECT EL IN

    268

相關(guān)期刊

常見問題

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