《Radiophysics And Quantum Electronics》的主要研究方向：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED。
期刊特色：
《Radiophysics And Quantum Electronics》作為一本專注于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED的國際期刊，通過發(fā)表高質(zhì)量的綜述文章，為研究人員和學(xué)生提供了深入了解該領(lǐng)域最新研究進(jìn)展的機(jī)會。該期刊反映了ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED的前沿動態(tài)。期刊彌合了最新研究與傳統(tǒng)教科書之間的差距，幫助讀者了解進(jìn)入該領(lǐng)域所需的基本知識。這不僅推動了學(xué)術(shù)交流，還為相關(guān)領(lǐng)域的研究提供了重要的參考，促進(jìn)了該領(lǐng)域科研交流和科研成果轉(zhuǎn)化。
期刊影響力：
該期刊的影響因子為0.8。
中科院分區(qū)信息在大類學(xué)科中地球科學(xué)為：4區(qū)，小類學(xué)科中ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONICENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED：4區(qū)，
中科院分區(qū)信息
放射物理學(xué)和量子電子學(xué)2023年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 地球科學(xué) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
放射物理學(xué)和量子電子學(xué)2022年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
|
否 | 否 |
放射物理學(xué)和量子電子學(xué)2021年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
放射物理學(xué)和量子電子學(xué)2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
放射物理學(xué)和量子電子學(xué)2021年12月升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
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4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
放射物理學(xué)和量子電子學(xué)2020年12月舊的升級版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣
PHYSICS, APPLIED
物理：應(yīng)用
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理：流體與等離子體
|
4區(qū)
4區(qū)
4區(qū)
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否 | 否 |
中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中，主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力，最終每個分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的，各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。
JCR分區(qū)信息：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)：Q4，按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)：Q4
JCR分區(qū)信息
Radiophysics And Quantum Electronics（2023-2024年最新版數(shù)據(jù)）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 301 / 352 |
14.6%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 165 / 179 |
8.1%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 37 / 40 |
8.8%
|
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 307 / 354 |
13.42%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 160 / 179 |
10.89%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q4 | 39 / 40 |
3.75%
|
湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》（Journal Citation Reports，簡稱JCR）。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當(dāng)年IF，最終每個分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。
（4）CiteScore：1.1，SJR：0.218，SNIP：0.361。
Cite Score（2024年最新版）
- CiteScore：1.1
- SJR：0.218
- SNIP：0.361
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Nuclear and High Energy Physics | Q3 | 60 / 87 |
31%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q4 | 627 / 797 |
21%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Astronomy and Astrophysics | Q4 | 72 / 90 |
20%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q4 | 237 / 284 |
16%
|
| 大類：Physics and Astronomy 小類：Statistical and Nonlinear Physics | Q4 | 56 / 62 |
10%
|
CiteScore：該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出，指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是：例如，某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù)，除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。
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