關(guān)于《Integrated Ferroelectrics》雜志是否接受AI輔助的論文，目前并沒有明確的官方聲明指出該雜志絕對接受或拒絕AI輔助撰寫的論文，可能會根據(jù)具體情況進行逐案評估，作者在投稿前可以與雜志社進行溝通或咨詢在線客服。

SCI期刊對AI輔助論文的接受程度因期刊而異，以下是對SCI期刊接受AI輔助論文情況的詳細分析：

一、AI輔助論文的使用限制

禁止生成核心內(nèi)容、禁止署名、保證數(shù)據(jù)完整性

二、AI輔助的用途

語言潤色，文獻綜述，圖表推薦

三、建議與策略

1.了解目標期刊政策：在投稿前，作者應仔細研究目標SCI期刊的政策和指南，了解其對AI輔助論文的態(tài)度和要求。

2.明確聲明AI使用情況：如果論文中使用了AI輔助技術(shù)，作者應在投稿時明確聲明，并提供詳細的AI使用說明和范圍。

3.保持學術(shù)誠信與原創(chuàng)性：作者應確保論文的核心內(nèi)容和創(chuàng)新點是由自己獨立完成的，避免過度依賴AI生成的內(nèi)容。

4.深度改寫與個性化處理：對AI生成的內(nèi)容進行深度改寫和個性化處理，以體現(xiàn)個人的學術(shù)思考和見解。

《Integrated Ferroelectrics》雜志創(chuàng)刊于1992年，國際標準簡稱為INTEGR FERROELECTR，ISSN號：1058-4587，E-ISSN號：1607-8489。

該雜志由Taylor and Francis Ltd.出版，出版周期為Monthly，出版語言為English。作為一本專注于工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的學術(shù)期刊，它被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄，在學術(shù)界具有較高的影響力。

《Integrated Ferroelectrics》雜志中文名稱為：集成鐵電體。

《集成鐵電體》為電子工程師和物理學家以及參與集成鐵電體設備研究、設計、開發(fā)、制造和利用的工藝和系統(tǒng)工程師、陶瓷學家和化學家提供了一個國際性的跨學科論壇。此類設備將鐵電薄膜和半導體集成電路芯片結(jié)合在一起。其結(jié)果是產(chǎn)生了一種新型電子設備，它將鐵電材料獨特的非易失性存儲器、熱電、壓電、光折變、抗輻射、聲學和/或介電特性與半導體集成電路技術(shù)的動態(tài)存儲器、邏輯和/或放大特性以及小型化和低成本優(yōu)勢相結(jié)合。

分區(qū)情況：

在中科院最新升級版分區(qū)表中，該雜志在大類學科工程技術(shù)中位于4區(qū)，小類學科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣中位于4區(qū)。

JCR分區(qū)信息按JIF指標學科分區(qū)，該雜志在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域為Q4。

Cite Score數(shù)據(jù)顯示，CiteScore：1.4，SJR：0.205，SNIP：0.289

學科類別

大類：Engineering，小類：Electrical and Electronic Engineering，分區(qū)：Q3，排名：583 / 797，百分位：26%； 大類：Engineering，小類：Ceramics and Composites，分區(qū)：Q3，排名：95 / 127，百分位：25%；

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