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《Journal Of Applied Crystallography》雜志的刊號是多少?

來源:好投稿網(wǎng)整理 2024-09-19 18:28:32

《Journal Of Applied Crystallography》國際標(biāo)準(zhǔn)刊號?ISSN:1600-5767,電子期刊的國際標(biāo)準(zhǔn)刊號:1600-5767。

創(chuàng)刊時間:1968年

出版周期:Bimonthly

出版語言:English

國際簡稱:J APPL CRYSTALLOGR

研究方向:CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH - CRYSTALLOGRAPHY

期刊定位與內(nèi)容:

應(yīng)用晶體學(xué)雜志(Journal Of Applied Crystallography)是一本由International Union of Crystallography出版的學(xué)術(shù)刊物,主要報(bào)道CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊,該刊創(chuàng)刊于1968年,出版周期Bimonthly。

《應(yīng)用晶體學(xué)雜志》發(fā)表專家撰寫的簡短易懂的評論,重點(diǎn)介紹晶體學(xué)的最新關(guān)鍵主題。每篇文章都是對該主題的最新、完整的總結(jié),方便尚未深入研究的人閱讀。

凝聚態(tài)研究、材料科學(xué)和生命科學(xué)中的許多研究課題都利用晶體學(xué)方法研究晶體和非晶體物質(zhì),包括中子、X 射線和電子?!稇?yīng)用晶體學(xué)雜志》上發(fā)表的文章重點(diǎn)介紹了這些方法及其在識別結(jié)構(gòu)和擴(kuò)散控制相變、結(jié)構(gòu)-性能關(guān)系、缺陷、界面和表面的結(jié)構(gòu)變化等方面的應(yīng)用。還涵蓋了儀器和晶體學(xué)設(shè)備的發(fā)展、理論和解釋、數(shù)值分析和其他相關(guān)主題。該雜志是發(fā)表晶體學(xué)計(jì)算機(jī)程序信息的主要場所。

出版周期與發(fā)文量:

該雜志出版周期Bimonthly。近年來,該期刊的年發(fā)文量約為184篇。

學(xué)術(shù)影響力:

2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級:Q1,2023年發(fā)布的影響因子為5.2,CiteScore指數(shù)10,SJR指數(shù)1.561。本刊非開放獲取期刊。

Cite Score(2024年最新版)
  • CiteScore:10
  • SJR:1.561
  • SNIP:3.062
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Biochemistry, Genetics and Molecular Biology 小類:General Biochemistry, Genetics and Molecular Biology Q1 34 / 221
84%
名詞解釋:

CiteScore:該指標(biāo)由Elsevier于2016年提出,指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScorer的計(jì)算方式是:例如,某期刊2022年CiteScore的計(jì)算方法是該期刊在2019年、2020年和2021年發(fā)表的文章在2022年獲得的被引次數(shù),除以該期刊2019年、2020年和2021發(fā)表并收錄于Scopus中的文章數(shù)量總和。

聲明:本信息依據(jù)互聯(lián)網(wǎng)公開資料整理,若存在錯誤,請及時聯(lián)系我們及時更正。

影響因子:5.2

?ISSN:1600-5767

EISSN:1600-5767

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