半導體技術雜志簡介

《半導體技術》雜志（CN:13-1109/TN）內(nèi)容豐富、思想健康，1976年創(chuàng)刊，目前以月刊形式發(fā)行，刊物對外積極擴大宣傳，致力于提高雜志質(zhì)量與影響。

《半導體技術》趨勢與展望：全面闡述半導體技術與應用的發(fā)展趨勢；專題報道：每期就設計、生產(chǎn)、應用等企業(yè)關注的熱門技術及焦點論題，進行有深度、廣度的全面剖析；器件制造與應用：半導體器件的設計和制造及在各種領域中的應用；工藝技術與材料：介紹最新的半導體技術制作工藝和該領域用的新材料；集成電路設計與開發(fā)：各種IC的設計和應用技術、設計工具及發(fā)展動向；封裝、測試與設備：介紹器件、芯片、電路的測試、設備和封裝的前沿技術；MEMS技術：現(xiàn)代管理：半導體代工廠、潔凈廠房、半導體用水及氣體、化學品，等管理技術；綜合新聞：及時世界各地半導體最新產(chǎn)品及技術信息。

半導體技術雜志特色

①摘要應全面概括論文的主要內(nèi)容，明確反映作者的主要觀點，不能僅僅籠統(tǒng)地介紹論文的思路和結構，避免使用“本文主張”“筆者認為”等評價方式。關鍵詞應為反映論文核心內(nèi)容的專業(yè)術語，一般3至5個。

②請勿一稿多投。三個月內(nèi)未收到我刊回復，作者即可自行處理。因人手緊張，恕不退稿，請自留底稿。

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⑤以“參考文獻”（左頂格）作為標志，不分文獻類別不加編號，順序排列。中文參考文獻在前，按拼音順序排列；英文參考文獻在后，按字母順序排列。